痕量(liang)和超痕量(liang)分(fen)(fen)析(xi)在科(ke)研(yan)、工業和檢測等(deng)(deng)各個領域發揮著越來越重要的(de)作用,這些靈敏的(de)分(fen)(fen)析(xi)技(ji)術對分(fen)(fen)析(xi)過(guo)程中(zhong)的(de)污染風(feng)險(xian)零容忍。純(chun)水在其中(zhong),參與(yu)清洗部件、冷卻、標(biao)準曲(qu)線(xian)繪(hui)制、樣品制備(bei)等(deng)(deng)諸多環節(jie)。水的(de)純(chun)度,必須符(fu)合嚴(yan)苛的(de)要求(qiu)。
Genie De-ion 是樂楓設計,與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統配合使用的純化、取水終端,提供離子含量低(di)至ppt 甚至亞ppt 水平的分析級超純水,使用者可通過Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開關控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)、石墨爐原子吸收(GF-AAS)等多種痕量/ 超痕量元素分析技術。
Genie De-ion 痕量分析用純化取水終端特點
● 裝有 ICP 型超純化柱,對超純水(shui)進行深度純化進一(yi)步去除(chu)痕量離子,持續提(ti)供ppt 或亞ppt 離子水(shui)平的超純水(shui)。
· 優化水(shui)路(lu)設計(ji),提高(gao)過水(shui)量,水(shui)質穩定(ding)。
· 柱體強耐壓,接口雙重密封,漏水風險低。
· 帶智能識別碼(RFID),智能化管理,工作狀態實時監控,追溯水質歷史數據、使用參數等。
· 安裝更換簡單,可以單手操作。
● 終端自帶彩色觸摸屏
· 2.4 英寸,實時顯示水質/ 流速等常用信息。
· 可戴手套和帶水操作。
· 設置手動或定量取水,調節流速。
● Genie De-ion 痕量分析用純化取水終端布局靈活,安裝便利,節省實驗室空間
典型應用 · ICP-MS 分析 · 石墨爐原子吸收光譜分(fen)析 · 痕(hen)量和超痕(hen)量元素分析(xi) · 關(guan)鍵儀器清洗等 | 應用領域/ 行業 · 電(dian)子(zi)、芯片、半導(dao)體 · 食品、農業、藥品、醫學 · 環保、地質 · 核工業、能源、法醫、 · 化學化工等 |
性能指標
超(chao)純水技術指(zhi)標 | |
取水流速(su) | 0 - 1.5 L/min |
電阻率(lv) ( @ 25℃ ) | 18.2 MΩ·cm |
TOC | < 5 ppb |
尺寸及重量 | |
寬 × 深 ×高 | 21 cm × 29 cm × 53 cm |
重量 | 21 kg |